台积电估量 6 月将英伟达 AI 加速技术 Culitho 导入 2nm ...

IT之家 3 月 22 日音讯，英伟达与台积电、ASML 和新思科技（Synopsys）携手协作，阅历四年开发，英伟达终于完成全新的 AI 加速技术 cuLitho。据引见，CuLitho 能够将下一代芯片计算光刻度进步 40 倍以上，使得 2nm 及更先进芯片的制构成为可能。

cuLitho 是一个用于运算式微影函数库，将可缩短先进制程芯片的光罩时程、拉升良率并大幅减低晶圆制造所需的能耗。

据台湾分离报，台积电将在今年 6 月对 cuLitho 中止消费资历认证，并完成 2nm 试产，用于提升 2 纳米制程良率，并缩短量产时程。

据引见，用于计算光刻的全新 NVIDIA cuLitho 软件库曾经被台积电和新思科技集成到其最新一代 NVIDIA Hopper 架构 GPU 的软件、制造流程和系统中，而设备制造商 ASML 则在 GPU 和 cuLitho 方面与 NVIDIA 密切协作，并计划将对 GPU 的支持集成到其一切的计算光刻软件产品中。

NVIDIA 黄仁勋表示，“芯片行业是世界上简直一切其他行业的基础，随着光刻技术抵达物理极限，NVIDIA 推出 cuLitho 并与我们的协作同伴 TSMC、ASML 和 Synopsys 协作，使晶圆厂能够进步产量、减少碳足迹并为 2nm 及更高工艺奠定基础。”

英伟达表示，相比目前的光刻技术 —— 在硅片上刻蚀图案的过程 ——cuLitho 可带来 40 倍的性能飞跃，大大加了速那种“每年耗费数百亿 CPU 小时”的大范围计算工作。